X射线晶体分析仪能够提供稳定的X射线光源,特点是利用可控硅和集成电路自动控制系统进行调流调压,从而获得一个强而稳定的射线光源.该机射线发生器功率大,整机稳定性高,操作简单,可靠性强,防护完善,可与各种射线照相机一起构成X射线晶体分析仪,或用于其他用途的X射线光源。广泛用于冶金、机械,电子、化工、地质、能源等科研、企业、大专院校。

　　

　　X射线晶体分析仪主要用于研究物质内部微观结构。如：单晶定向、检验缺陷、物质定性、测定点阵参数、测定残余应力等。

　　

　　X射线晶体分析仪主要特点：

　　

　　1.冷却装置：自带制冷系统，无需外接水循环，并自动控制水温及显示X光管温度。

　　

　　2.外射线计量不大于2.5μSv/h

　　

　　3.X光管：额定功率2KW(铜靶)

　　

　　4.定时：单片机自动定时，定时时间任意选择。

　　

　　X射线晶体分析仪技术指标及配置

　　

　　X射线晶体分析仪zui大管压：60kV，zui大管流：60mA；陶瓷X光管zui大功率：2.2kW（Cu靶），zui大管压：60kV，zui大管流：55mA，测角仪扫描方式有θ/θ和θ/2θ两种，多功能样品台、X’Celerator超能探测器、升温附件和小角散射附件